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0第二节课，讲人类发明的最精密的机器。
光刻机干的活，本质上可以类比成一台照相机：把电路图像幻灯片一样，用光缩小4倍，投影到涂了光刻胶的硅片上；一片先进芯片要这样套印几十上百层，层层分毫不差。线条越细，就得用波长越短的光——从汞灯的436纳米，一路压到极紫外光的13.5纳米。
到EUV这一代，物理学处处跟科学家作对：这种光空气能吸收、玻璃也能吸收，机器里只能抽成高真空、改用反射镜；光在自然界不存在，得凭空造——每秒5万次激光轰击锡滴，打出22万摄氏度、太阳表面近40倍的等离子体；蔡司的反射镜平到放大到整个德国国土那么大，最高的山丘起伏不到0.1mm；承载硅片的工件台磁悬浮加速，七个重力加速度、猛过战斗机，定位精度比一个硅原子还小。
图1：光刻机原理示意图
2002年，全行业押注157纳米路线、已经砸进去20亿美元，台积电的华人工程师林本坚，在157纳米的专场大会上砸场子——提出波长不换，镜头底下灌一层超纯水就行。就这一层水，把摩尔定律从45纳米硬续到7纳米。阿斯麦当年就改造出样机、台积电第一个站出来下单，尼康慢了半拍，从此攻守易形。
图2：三十年份额大逆转
ASML(阿斯麦）起家于飞利浦办公楼旁边的一间板棚屋，1995年全球份额只有15.9%，尼康佳能合计近八成；它靠双工件台、浸没式快攻，以及"镜头找蔡司、激光找通快、光源收购Cymer"的总集成商模式翻盘，2024年份额高达94.1%，EUV市场甚至百分之百垄断。
EUV是一场三十年、上百亿美元的豪赌：2012年，英特尔、台积电、三星三个死对头居然掏钱成了ASML的股东。今天EUV一台1.5到两亿美元、订单排到2028年，也成了大国博弈最要命的咽喉：中国大陆一台EUV都没拿到；国产最先进量产光刻机停在90纳米，国产EUV原型机据路透社报道尚未产出可用芯片。差距是真实的，但是国产替代的进步也是真实的。
图3：国产光刻追到哪了（四代技术进度条）
下节课：同样一台EUV，放到不同芯片厂手里，出来的水平天差地别。张忠谋老爷子56岁才创业，怎么把造芯片这件事单独劈出来，劈成今天整个芯片世界的格局？台积电，我们下期见。
