本期要点
· 一块芯片要过约 2000 道工序,良率不是设计出来的,是靠线内量测、末端电测和截面切片一层层追出来的
· 10 纳米的教训:单代塞进太多创新,晚了将近四年——技术成功不等于商业成功
· EUV 判断失误的代价:对手 2019 年量产导入,英特尔 2023 年才用上,等于少练了四年手
· 同一台四亿美元的 High-NA 光刻机,英特尔说划算、台积电说不划算,差别在于有没有背面供电
· 从整合元件制造商到代工厂:18A 在工艺设计套件上交了学费,14A 从第一天就要求高质量套件
· 到 2045 年,晶体管会悬浮在互连线之中;CFET 垂直堆叠与散热是下一道关
· 阿斯麦的 EUV 一年不到一百台,全球现有设备最多支撑约 2 倍扩产,而 AI 算力在以每年 3 倍的速度要货
· 一座晶圆厂约 80% 成本是固定的,良率从 60% 提到 65% 不是线性收益——这就是先进节点只剩三家代工厂的原因
