光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机可以说是半导体工业皇冠上的时珠。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。我国目前光刻机行业发展情况如何?第一财经广播评论员蒋衍详解行业情况。


EP.4 每天了解一个行业:光刻机
13分钟 ·
190·
1
momo_XrvI
2024.12.25
0
光刻机不提上海微电子?